| รหัส / code | คำอธิบาย / code name | Version |
| H01L0021301000 | to subdivide a semiconductor body into separate parts, e.g. making partitions (cutting H01L0021304000) | 1 |
| H01L0021302000 | to change the physical characteristics of their surfaces, or to change their shape, e.g. etching, polishing, cutting | 1 |
| H01L0021304000 | Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting | 1 |
| H01L0021306000 | Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching (to form insulating layers H01L0021310000; after-treatment of insulating layers H01L0021310500) | 1 |
| H01L0021306300 | Electrolytic etching | 1 |
| H01L0021306500 | Plasma etching; Reactive-ion etching | 1 |
| H01L0021308000 | using masks (H01L0021306300, H01L0021306500, take precedence);; | 1 |
| H01L0021310000 | to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques (encapsulating layers H01L0021560000); After-treatment of these layers; Selection of materials for these layers | 1 |
| H01L0021310500 | After-treatment | 1 |
| H01L0021311000 | Etching the insulating layers | 1 |
| H01L0021311500 | Doping the insulating layers | 1 |
| H01L0021312000 | Organic layers, e.g. photoresist (H01L0021310500, H01L0021320000 take precedence);; | 1 |
| H01L0021314000 | Inorganic layers (H01L0021310500, H01L0021320000 take precedence);; | 1 |
| H01L0021316000 | composed of oxides or glassy oxides or oxide-based glass | 1 |
| H01L0021318000 | composed of nitrides | 1 |
มาตรฐานข้อมูลกระทรวงพาณิชย์ การจัดทำมาตรฐานข้อมูลกระทรวงพาณิชย์ ซึ่งดำเนินการตามกรอบแนวทางการเชื่อมโยงรัฐบาลอิเล็กทรอนิกส์แห่งชาติ หรือ TH e-GIF โดยมีวัตถุประสงค์เพื่อให้จัดทำมาตรฐานข้อมูลด้านการพาณิชย์ให้สามารถใช้งานร่วมกันได้ทั้งหน่วยงานภายในกระทรวงพาณิชย์และหน่วยงานภายนอก สามารถบูรณาการเชื่อมโยงแลกเปลี่ยนข้อมูลระหว่างกันได้อย่างมีประสิทธิภาพ และไม่ส่งผลกระทบต่อกระบวนการทำงาน/ข้อมูลของระบบงานต่างๆ ที่หน่วยงานมีอยู่ในปัจจุบัน โดยมีเป้าหมายที่ประชาชนหรือผู้รับบริการเป็นศูนย์กลางการให้บริการ