ข้อมูลAdapting basic layout or design of masks to lithographic process requirements, e.g. second iteration correction of mask patterns for imaging


เวอร์ชั่นข้อมูล

เวอร์ชั่น รหัส / code คำอธิบาย / code name เครื่องมือ
1 G03F0001700000 Adapting basic layout or design of masks to lithographic process requirements, e.g. second iteration correction of mask patterns for imaging 29/09/2562